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CPU是怎样制成的 (5)
肖秋涛　2000-12-26 17:10:21

　　接下来，二氧化硅被更多的化学原料清洗掉，在晶片上只留下一部分二氧化硅的遮掩（图案）。下图展示的是多余原料被清除后剩下的部分。然后重复操作产生另外一层。另外一层稀薄的二氧化硅生长在先前的遮掩和晶片上。然后一层经过“演变”的硅和另外一层Photoresist被应用于晶片。



　　图11/图12

　　然后紫外光又照射到另一遮掩物上，它只允许特定部分的光线通过。曝露的Photoresist区域被化学原料清洗掉。只剩下一层经过“演变”的硅和第一层二氧化硅。



　　图13/图14

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