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Intel CPU 技术进展内幕：2001++ (3)
精工/太平洋评测室　2001-02-12 15:43:49

Intel技术蓝图

	当前的					未来的
晶片直径	八英寸 (200毫米)					12英寸 (300毫米)
产品年代	1993	1995	1997	1999	2001	2003	2005
工艺级别	0.50微米	0.35 微米	0.25 微米	0.18 微米	0.13 微米	0.10 微米	0.07 微米
栅闸长度	0.50 微米	0.35 微米	0.20 微米	0.13 微米	0.07 微米	0.05 微米	0.03 微米

　　注：0.03微米＝30纳米

　　正如上表所看到的，Intel计划在今年推出0.13微米技术。在再后的2003年和2005年里Intel将陆续推出0.10微米和0.07微米的工艺技术。这是Intel披露了他们会在之后将300纳米技术带进晶片里面。

　　在另一厢，我们通常把晶体管栅闸的长度作为第几代处理器的一个划分。上表当中，你可以看到在Intel的各代处理器当中，在第三代处理器采用0.25微米技术时候，晶体管栅闸工艺已经是0.20微米咯。而在2005年，晶体管栅闸工艺竟然到达令人吃惊的0.03微米。

　　在处理器工艺到达0.07微米的时候，一个独立的处理器晶体管速度理论值将达到史无前例的500GHz！！！虽然实际速度不可能这么快，但也能到达一个令现在的我们一个十分吃惊的数字了。

　　图例说明：在这个NMOS晶体管示意图里面就标明了Intel的0.13微米技术

　　图例说明：晶体管栅闸延迟（微微秒级）跟其长度对比增长图。Intel的0.07微米技术确实有能力使得单枚晶体管频率达到500GHz。

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