台积电0.15微米制程为NVIDIA、Xbox制造产品
　2001-03-26 14:59:32

　　据台湾媒体报道，台积电今(26)日宣布成功使用其0.15微米制程技术为数家客户大量产出集成电路产品。其中，台积电提供0.15微米低电压 (low-voltage)的高效能制程技术，为NVIDIA公司生产应用于微软公司 XboxO游戏主机中的主要处理器，以及受到市场高度瞩目的GeForce3绘图处理器 (Graphics Processing Unit；GPU)产品。
　　
　　NVIDIA公司总裁兼执行长Jen-Hsun Huang表示，该公司十分高兴能成为率先使用台积电0.15微米制程技术的客户之一。藉由先进0.15微米制程技术的顺利量产，台积电协助NVIDIA公司在绘图及多媒体应用领域生产功能更复杂、效能更优异的处理器产品。
　　
　　台积电总经理曾繁城表示，台积电0.15微米制程技术是当前半导体产业应用于量产的最先进制程技术，此次成功为NVIDIA公司量产0.15微米产品，不仅是台积电技术发展上的突破，同时是其提供高品质客户服务的又一例证。而除了NVIDIA公司之肯定之外，其他客户对台积电0.15微米制程技术的量产需求也在持续增加中。此外，台积电0.13微米制程技术也有许多客户，可望于今年下半年起陆续进行大量生产。
　　
　　NVIDIA为率先将0.15微米制程技术应用于高效能产品设计的数家公司之一，该公司在绘图及多媒体制程技术上具领导地位。此次台积电提供0.15微米制程技术，系为NVIDIA公司生产新近开发完成的GeForce3 GPU，以及Xbox绘图处理器 (Xbox Graphics Processing Unit； XGPU)与Xbox媒体通讯处理器 (Xbox Media Communi-cations Processor； MCPX)。
　　
　　台积电0.15微米制程技术主要应用于电脑、通讯及消费性电子领域。此制程技术的性能表现较0.18微米制程技术更为优异，并能大幅降低每颗晶粒的成本。0.15微米制程是一重要的技术平台，尤其在速度、功率及密度上均能同时展现良好的效能，在2000年 3月完成产品验证后，已陆续为一些客户量产。台积电是第一家推出0.15微米制程技术为客户进行大量生产的专业晶圆制造服务公司，并将以充足的产能来满足客户持续增加的需求。
　　
　　台积电0.15微米制程技术是该公司今年技术发表会(Technology Symposium)的多项主题之一。台积电今年在美国举办的技术发表会将于 4月23日在加州San Jose举行，4月25日在德州Austin举行，4月27日在麻塞诸塞州Boston举行，4 月30日在加州Costa Mesa举行。此外，台积电也将陆续在台湾、日本及欧洲地举办技术发表会。