高性能溅射靶材行业是国家重点支持和鼓励发展的行业,国家产业政策对行业发展具有积极的促进作用。目前国家多个部门已经通过各类文件多层次、多角度、多领域对高性能溅射靶材行业予以全产业链、全方位的指导,相继出台了《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》《广东省培育前沿新材料战略性新兴产业集群行动计划(2021-2025年)》《“十四五”原材料工业发展规划》等多项支持我国高性能溅射靶材行业发展的产业政策,为广东欧莱高新材料股份有限公司(下称“欧莱新材”)等行业内企业的经营发展提供了有力的支持和良好的环境。
资料显示,欧莱新材主营业务为高性能溅射靶材的研发、生产和销售,主要产品包括多种尺寸和各类形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等。面对行业发展机遇,欧莱新材积极冲击科创板IPO,计划募资5.77亿元,分别用于高端溅射靶材生产基地项目(一期)、高纯无氧铜生产基地建设项目、欧莱新材半导体集成电路靶材研发试制基地项目、补充流动资金。
对于未来的发展规划,欧莱新材在IPO招股书表示,公司将巩固并提升在平面显示用溅射靶材领域的领先地位。欧莱新材将紧密围绕市场发展趋势和下游客户需求,持续改良生产工艺,提升产品综合性能,拓展在高世代显示面板生产线中的产品应用,通过优化现有生产布局,扩大生产制造规模,就近为下游客户提供全方位的产品配套服务,进一步提升在平面显示用溅射靶材的市场占有率。
其次,欧莱新材将积极布局上游高纯金属材料,实现关键技术领域的创新与突破,提升高性能溅射靶材的持续稳定供应能力。公司将加大高纯金属材料的研发投入力度,深入研究高纯金属材料提纯技术与生产工艺,建设高纯金属材料生产基地,实现高导电率、低氧含量高纯金属材料的量产供货能力,向上游延伸产品价值链,进一步提高公司产品质量的稳定性和一致性。
同时,欧莱新材还将凭借现有市场基础和客户资源,不断拓展高性能溅射靶材的下游应用领域。公司将建立半导体集成电路靶材研发试制基地,开展半导体集成电路晶圆制造用溅射靶材的研发试制,实现半导体集成电路用溅射靶材的产业化应用。此外,公司将持续推动产品技术创新和生产工艺革新,以ITO靶、铜靶等溅射靶材为依托,研制适配于异质结电池、新型复合铜箔的溅射靶材,开发出更多具有较高技术含量和附加值的产品,丰富公司产品的下游应用场景。
有业内人士分析指出,在国家政策利好的背景下,国内高性能溅射靶材行业将迎来新的发展机遇。若欧莱新材成功上市,并将规划落实,将能持续受益于行业发展,推动企业可持续高质量发展。
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