回顾近期Intel工艺发展

    Intel已经开始将所有的产品线都过渡到了45nm，也就是说，以后新开发出来的产品，都将是45nm的制程，65nm产品将会逐渐的被45nm所取代。工艺上的对CPU的性能会有什么样的影响呢？先让我们来小小回顾一下Intel的工艺发展历程。

    说是小小的回顾，我们就不必回顾的太远，就从跨入纳米时代的奔腾(Pentium)处理器开始吧。1993年，采用800nm制造工艺的奔腾(Pentium)的出世，标志着CPU全面从微米时代跨入了纳米时代。在此后，Intel又推出了基于500nm制造工艺的奔腾产品，并且在CPU主频上有了一定的提升。

Pentium 处理器

    1995年后，半导体行业已普遍采用0.35微米（350nm）工艺进行主流芯片的生产。从Pentium 133开始，Intel也开始采用0.35微米制程，新工艺的应用使得芯片的尺寸不断缩小，集成度不断提高，功耗降低，性能也相应提高了。

    随着CPU性能及频率的增加，原有的制造工艺已无法满足要求。因此，0.25微米工艺便应运而生。从Pentium Ⅱ开始，以及一些旧版本的Pentium III处理器，Intel便使用了0.25微米工艺，与0.35微米工艺相比，使用0.25微米制程可使处理器的运算速度提升一倍以上，且工作电压更低，功耗更少。同时，芯片的封装面积更小、成本更低、功能也更强。

Pentium III处理器

    1999年，Intel推出了0.18微米工艺，开始生产基于0.18微米工艺的的Pentium III和Pentium 4处理器，并且，在2001年实现了0.13微米产品的量产，与0.18微米工艺相比，新的0.13微米工艺的氧化层可减少30%以上，工作电压可达到更低，芯片面积更小。每块芯片的成本将因此大幅下滑，这对提升处理器/显示芯片的价格竞争力大有裨益，芯片使用0.13微米取代0.18微米工艺便势如破竹，成为了芯片制造界历史上一次重大的变革。

2003年迅驰芯片组

    2004年Intel推出核心为Prescott的Pentium 4E处理器，在此次推出的Pentium 4E处理器中，一个显著的特点就工艺再次改进为90nm，集成了1亿个晶体管。但工艺的提升，没有使得功耗降低，这是因为处理器厂商和用户在那时候开始追求CPU主频的提升，两大桌面处理器制造厂商Intel和AMD开始互相攀比所制造的处理器的主频，主频的大幅度提升，加上芯片内的漏电严重，使得处理器的功耗开始走高。

    2005年，Intel便开始推出了基于65nm工艺的处理器，并且在漏电方面有了较大的改进。

    2007年11月16日，Intel正式发布了45nm工艺的新处理器，从此，处理器开始走进了45nm时代。