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聚焦先进封装量测需求,鑫图光电全系列成像方案将登陆无锡半导体设备展

聚焦先进封装量测需求,鑫图光电全系列成像方案将登陆无锡半导体设备展
2026-08-31 15:45:42 来源:中华网

随着 AI 算力芯片驱动先进封装不断演进,大尺寸基板、高密度互连结构对光学检测设备提出更高要求。传统工业相机受靶面尺寸限制,单次拍摄视场有限,需要多次图像拼接完成大面积基板检测,不仅拖慢产线节拍,还容易引入拼接误差;与此同时,微凸点、RDL 精细线路、混合键合焊盘等微米、亚微米级结构,既要求更大成像视野,又不能牺牲空间分辨率,同时后端 AI 缺陷判读系统,也对相机的数据输出通量提出新的门槛。机器视觉行业公开资料显示,当前工业面阵相机迭代,正向更大靶面、超高带宽接口两大方向演进,100G 级别高速接口逐步进入半导体量产检测场景。Chiplet、CoWoS、面板级封装(PLP)、混合键合等先进封装工艺快速落地,半导体检测环节面临视场范围、解析精度、数据吞吐能力的多重考验。

半导体成像探测器从实验室走向量产产线,仅凭参数指标的跃升远不足够,真正的门槛在于能否将高性能成像技术转化为稳定、可集成、可持续交付的工程化能力。

在产品研发端,国内科学成像方案商鑫图光电组建了覆盖光学、机械、电子、算法、软件五大专业的跨学科团队,以客户实际检测需求与现场应用环境为原点,围绕FPGA底层开发、SDK深度适配、标准协议兼容及定制化集成四大维度,构建起面向产线的深度集成能力,确保相机在各类复杂工艺场景中即插即用、高效协同。制造与交付层面,该企业自建超1万平方米制造基地,配备百级、千级洁净车间及AFM快速柔性产线,并建立起覆盖生产、测试、品控的全链路标准化体系,为批量交付提供硬件底座。可靠性验证方面,出厂产品需经历气候、机械、电气等十余项严苛环境测试,从温度冲击、振动耐受到电磁干扰,多维度模拟工业现场真实工况,验证长期运行稳定性。此外,还围绕核心器件供应链、供应商分级管理和产品生命周期进行前瞻规划,通过稳定的物料平台与产品迭代策略,保障对工业客户的持续、可靠供货。

第十四届半导体设备材料及核心部件展(CSEAC 2026)将于 8 月 31 日9 月 2 日在无锡太湖国际博览中心举办,展会聚焦半导体设备、材料、核心零部件创新成果,汇集国内产业链多家关键部件厂商,展示面向先进制程的硬件解决方案。

本次展会上,鑫图光电将对外展示 Libra 27105 超高通量面阵相机,以及完整的工业量检测产品矩阵,覆盖光路监测、高速扫描成像、大靶面快照检测、短波红外内部透视多个应用环节,为半导体前道、后道检测提供成像硬件支撑。

从科研成像到工业量检测,近二十年的技术深耕让鑫图光电逐步沉淀出覆盖产品定义、系统适配、制造测试与交付运维的完整能力闭环,而Libra 27105超高通量面阵相机的推出,正是这一工程化体系在大靶面、高分辨率、高速成像方向的最新落地成果,为半导体先进封装检测提供真正可量产的成像硬件支撑。

在实际落地场景中,这款相机可以适配面板级封装基板翘曲量测、RDL 线路检测、Bump 凸点缺陷检查;在混合键合工艺中,配合白光干涉光学量测方案,完成晶圆焊盘平整度、表面粗糙度相关成像采集;同时可用于晶圆几何形貌分析、薄膜图形复检等前后道一贯化量测场景,支撑产线自动化检测流程。

除全新面阵相机产品之外,整套工业检测产品矩阵还包含多条技术产品线。XT 系列光斑分析仪用于光路前端监控,完成激光能量分布、光斑形貌的实时测量;Gemini 系列 TDI 相机面向晶圆、大尺寸面板的高速扫描量产线;Libra系列面阵相机将前沿科学相机的低噪声、大靶面等成像特性引入高速检测场景,向下游算法稳定交付高保真图像数据;Dhyana 软 X 射线系列相机适配紫外、极紫外波段检测,具备抗辐射损伤、真空兼容(10⁻⁶~10⁻⁷ Pa)与深制冷能力,显著提高极紫外波长成像及光谱探测效率和信噪比;短波红外产品线拓展成像感知波段,针对多层堆叠封装,实现硅基材料内部结构的透视检测。整套产品沿着高速、大靶面、跨波段的技术路线,覆盖半导体工艺检测不同环节,将科学成像的低噪声成像技术沉淀,下沉到工业量产检测场景。

同时,该款 Libra 27105 面阵相机针对先进封装大尺寸检测痛点进行设计,采用 28.08mm×28.08mm 的 2.5 英寸超大感光靶面,相较传统 21MP 工业相机有效成像面积提升约 2.3 倍,对比主流 65MP 机型成像面积提升 57%,更大单次成像视场,能够减少图像拼接次数,改善大面板基板检测的整体效率。硬件搭载 100G CoF 高速接口,在 105MP 全分辨率条件下,实现 112fps 输出,数据吞吐量可达 11760MP/s,相比市面主流 65MP、21MP 工业相机,数据吞吐能力提升约 2.5 倍,可以向 AI 缺陷复判、精密光学量测设备持续输出大规模图像数据。在大靶面基础之上,产品采用 2.74μm 高密度像元,兼顾视野范围与空间采样能力,保障微小缺陷、精细互连结构的解析能力。

业内人士表示,先进封装是我国半导体产业重点发力赛道,检测量测核心部件的国产化,对整条产业链降本增效具备现实意义。CSEAC 2026 作为半导体设备领域重要行业展会,为上下游设备商、封测制造企业搭建技术交流窗口,展会期间,产业链各方也将围绕先进封装量测、AI 检测、供应链协同等议题开展多场专题论坛,探讨产业技术发展路径。后续随着更多国产成像硬件迭代落地,将进一步丰富国内半导体检测设备的部件选择。

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